@phdthesis{Kleinn,
  type      = {Bachelor Thesis},
  author    = {Johanna Kleinn},
  title     = {Entwicklung einer neuartigen Metall-Kohlenstoff-Verbundbeschichtung - Einfluss der Prozessparameter auf die Schichteigenschaften beim reaktiven Magnetron-Sputtern von Mo-W-C Schichten},
  address   = {Offenburg},
  url       = {https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bsz:ofb1-opus4-23965},
  pages     = {47, VIII},
  abstract  = {F{\"u}r den Einsatz im Maschinen- und Fahrzeugbau soll eine neuartige Metall-Kohlenstoff-Verbundbeschichtung entwickelt werden, in der die positiven Eigenschaften der Komponenten Molybd{\"a}n, Wolfram und Kohlenstoff hinsichtlich von Verschlei{\"s}- und Temperaturbest{\"a}ndigkeit kombiniert werden sollen. Das Schichtsystem Mo-W-C wird im Verfahren des reaktiven Magnetron-Sputterns hergestellt. In insgesamt 28 Chargen werden systematisch die Prozessparameter Sputtergasfluss (Argon), Prozessgasfluss (C2H2), Kathodenleistungsverteilung (insgesamt konstant, variierte Aufteilung auf die zwei Metalltargets aus Mo und W), Bias-Spannung und Bias-Strom variiert. Anhand der Untersuchungen zu Zusammensetzung, Verschlei{\"s}eigenschaften, H{\"a}rte, E-Modul, Struktur und Haftung der Beschichtung mittels mechanischer, optischer und chemischer Pr{\"u}fverfahren sollen die Einfl{\"u}sse der Prozessparameter ermittelt werden. Durch vergleichendes Gegen{\"u}berstellen wird gezeigt, dass besonders gute Resultate hinsichtlich H{\"a}rte, E-Modul und Haftung bei den niedrigsten eingestellten Werten f{\"u}r Bias-Spannung (100 V), Bias-Strom (2 A) und C2H2-Gasfluss (30 sccm) sowie dem h{\"o}chsten eingestellten Argon-Gasfluss (55 sccm) erzielt werden. Gute Verschlei{\"s}raten werden grunds{\"a}tzlich bei einer Bias-Spannung von 200 V, einem Bias-Strom von 3 A und einem Argon-Gasfluss von 55 sccm erzielt. Die im Rahmen dieser Arbeit ermittelten Daten stellen die Grundlage f{\"u}r weitere Untersuchungen dar, die das Ziel verfolgen, eine ideale Parameterauswahl f{\"u}r das Schichtsystem Mo-W-C im reaktiven Magnetron-Sputterprozess zu entwickeln.},
  language  = {de}
}