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Method and device for transporting flat substrates (WO2014076090A1)

Verfahren und Vorrichtung zum Transport flacher Substrate

Procédé et dispositif de transport de substrats plats

  • The invention relates to the field of transporting flat substrates such as silicon substrates. In particular, the invention relates to particularly protective and continuous transport of such substrates. The method according to the invention is used to transport a vertically aligned flat substrate (1) comprising two flat sides in a transport direction inside a transport channel (2) that is atThe invention relates to the field of transporting flat substrates such as silicon substrates. In particular, the invention relates to particularly protective and continuous transport of such substrates. The method according to the invention is used to transport a vertically aligned flat substrate (1) comprising two flat sides in a transport direction inside a transport channel (2) that is at least partially filled with a liquid medium (F), wherein said liquid medium (F) flows against at least one of the flat sides of the substrate (1) and has a supporting component, which lifts the sum of the weight and buoyancy force of the substrate (1), and an advancing component, which is directed in the transport direction, so that the substrate (1) is supported and transported without mechanical aids. The device according to the invention comprises a transport channel (2) for accommodating a liquid medium (F) and a substrate (1) to be guided in vertical alignment within said medium (F), wherein the transport channel (2) has inflow openings (5) in the walls (3, 4).show moreshow less
  • Die Erfindung betrifft das Gebiet des Transports flacher Substrate wie beispielsweise Siliziumsubstrate. Insbesondere betrifft die Erfindung den besonders schonenden und kontinuierlichen Transport solcher Substrate. Das erfindungsgemäße Verfahren dient dem Transport eines vertikal ausgerichteten flachen Substrats (1) mit zwei Flachseiten in eine Transportrichtung innerhalb eines zumindestDie Erfindung betrifft das Gebiet des Transports flacher Substrate wie beispielsweise Siliziumsubstrate. Insbesondere betrifft die Erfindung den besonders schonenden und kontinuierlichen Transport solcher Substrate. Das erfindungsgemäße Verfahren dient dem Transport eines vertikal ausgerichteten flachen Substrats (1) mit zwei Flachseiten in eine Transportrichtung innerhalb eines zumindest teilweise mit einem flüssigen Medium (F) gefüllten Transportkanals (2), wobei das flüssige Medium (F) gegen mindestens eine der Flachseiten des Substrats (1) strömt und eine die Summe aus Gewichts- und Auftriebskraft des Substrats (1) aufhebende Tragekomponente sowie eine in Transportrichtung gerichtete Vorschubkomponente aufweist, so dass das Substrat (1) ohne mechanische Hilfsmittel getragen und transportiert wird. Die erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst einen Transportkanal (2) zur Aufnahme eines flüssiges Mediums (F) sowie eines innerhalb dieses Mediums (F) in vertikaler Ausrichtung zu führenden Substrats (1), wobei der Transportkanal (2) in den Wänden (3, 4) Einströmöffnungen (5) aufweist.show moreshow less
  • L'invention concerne le domaine du transport de substrats plats comme par exemple des substrats de silicium. L'invention concerne en particulier le transport particulièrement précautionneux et continu de tels substrats. Le procédé selon l'invention sert au transport d'un substrat (1) plat orienté verticalement, ayant deux côtés plats, dans un sens de transport à l'intérieur d'un canal de transportL'invention concerne le domaine du transport de substrats plats comme par exemple des substrats de silicium. L'invention concerne en particulier le transport particulièrement précautionneux et continu de tels substrats. Le procédé selon l'invention sert au transport d'un substrat (1) plat orienté verticalement, ayant deux côtés plats, dans un sens de transport à l'intérieur d'un canal de transport (2) rempli au moins en partie d'un milieu liquide (F), ce dernier (F) s'écoulant contre au moins un des côtés plats du substrat (1) et présentant une composante porteuse neutralisant la somme de la force pondérale et de la force ascensionnelle du substrat (1) ainsi qu'une composante d'avancement orientée dans le sens de transport de sorte que le substrat (1) est porté et transporté sans moyen auxiliaire mécanique. Le dispositif selon l'invention comprend un canal de transport (2) destiné à recevoir un milieu liquide (F) ainsi qu'un substrat (1) à guider dans une orientation verticale à l'intérieur de ce milieu (F), le canal de transport (2) présentant dans les parois (3, 4) des ouvertures d'afflux (5).show moreshow less

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Metadaten
Document Type:Patent
Zitierlink: https://opus.hs-offenburg.de/1965
Bibliografische Angaben
Title (English):Method and device for transporting flat substrates (WO2014076090A1)
Title (German):Verfahren und Vorrichtung zum Transport flacher Substrate
Title (French):Procédé et dispositif de transport de substrats plats
Number:WO2014076090A1
Country of Patent Application:Europäisches Patentamt
Author:Hannah Banzhaf, Teresa Frenssen, Daniel KrayStaff MemberORCiDGND, Patrick Nowack, Sofia Reim, Christian Sautermeister, Alexander Schwarz
Year of Publication:2014
Date of first Publication:2014/05/22
PatentApplication:12.11.2013
Page Number:26
URL:https://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?action=bibdat&docid=WO002014076090A1
URL:https://encrypted.google.com/patents/WO2014076090A1?cl=de
Language:English
Inhaltliche Informationen
Institutes:Fakultät Maschinenbau und Verfahrenstechnik (M+V)
Institutes:Bibliografie
GND Keyword:Substanz; Transport
Formale Angaben
Open Access: Open Access 
Licence (German):License LogoUrheberrechtlich geschützt
Comment:
Anmeldenummer: 2013073635
Datum der Offenlegung: 22.05.2014
Deutsches Patent: DE102012110916A1