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Nasschemische Behandlungsanlage zum elektrochemischen Beschichten von flachen Substraten (DE102013100805B4)

  • Nasschemische Behandlungsanlage zum elektrochemischen Beschichten von flachen Substraten (1) mit Beschichtungsmaterial, mit einem Becken zur Aufnahme eines Elektrolyten, und mit Transportmitteln, mit welchen die flachen Substrate (1) horizontal durch den Elektrolyten transportierbar sind, sowie mit mindestens einem Kontaktelement (2), welches eine Welle (4) mit Drehachse (5) und eine zum AbrollenNasschemische Behandlungsanlage zum elektrochemischen Beschichten von flachen Substraten (1) mit Beschichtungsmaterial, mit einem Becken zur Aufnahme eines Elektrolyten, und mit Transportmitteln, mit welchen die flachen Substrate (1) horizontal durch den Elektrolyten transportierbar sind, sowie mit mindestens einem Kontaktelement (2), welches eine Welle (4) mit Drehachse (5) und eine zum Abrollen auf dem Substrat (1) geeignete zylindrische Umfangsfläche aufweist, wobei die Umfangsfläche mindestens ein elektrisch isoliertes Segment (3B) und mindestens ein elektrisch leitendes Segment (3A) umfasst, das mit einer Stromquelle (6) umpolbar verbindbar ist, wobei die Drehachse (5) des Kontaktelements (2) oberhalb der Oberfläche des Elektrolyten positioniert ist, und wobei das Kontaktelement (2) als Verbrauchselektrode ausgestaltet ist.show moreshow less

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Metadaten
Document Type:Patent
Zitierlink: https://opus.hs-offenburg.de/8465
Bibliografische Angaben
Title (German):Nasschemische Behandlungsanlage zum elektrochemischen Beschichten von flachen Substraten (DE102013100805B4)
Number:DE102013100805B4
Author:Daniel KrayStaff MemberORCiDGND
Year of Publication:2015
PatentApplication:28.01.2013
Date of Patent Granted:22.01.2015
Creating Corporation:Hochschule Offenburg
Page Number:7
URL:https://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?action=bibdat&docid=DE102013100805B4
Language:German
Inhaltliche Informationen
Institutes:Fakultät Maschinenbau und Verfahrenstechnik (M+V)
Collections of the Offenburg University:Bibliografie
Formale Angaben
Open Access: Open Access 
 Bronze 
Licence (German):License LogoUrheberrechtlich geschützt
Comment:
Anmeldenummer: 102013100805
A1-Schrift: DE102013100805A1
Europäisches Patent: EP000002948578A1
Internationales Patent: WO002014114789A1
US Patent: US020150354080A1
Koreanisches Patent: KR102015114531A